薄膜物理与技术

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出版社:电子科技大学出版社
出版日期:2006-9
ISBN:9787810167499
作者:杨邦朝
页数:237页

书籍目录

第一章真空技术基础1-1真空的基本知识1-2稀薄气体的基本性质1-3真空的获得1-4真空的测量第二章真空蒸发镀膜法2-1真空蒸发原理2-2蒸发源的蒸发特性及膜厚分布2-3蒸发源的类型2-4合金及化合物的蒸发2-5膜厚和淀积速率的测量与监控第三章溅射镀膜3-1溅射镀膜的特点3-2溅射的基本原理3-3溅射镀膜类型3-4溅射镀膜的厚度均匀性第四章离子镀膜4-1离子镀原理4-2离子镀的特点4-3离子轰击的作用4-4离子镀的类型第五章化学气相沉积5-1化学气相沉积的基本原理5-2化学气相沉积的特点5-3CVD方法简介5-4低压化学气相沉积5-5等离子体化学气相沉积5-6其他化学气相沉积法第六章溶液镀膜法6-1化学反应沉积6-2阳极氧化法6-3电镀法6-4LB膜的制备第七章薄膜的形成7-1凝结过程7-2核形成与生长7-3薄膜形成过程与生长模式7-4溅射薄膜的形成过程7-5薄膜的外延生长7-6薄膜形成过程的计算机模拟第八章薄膜的结构与缺陷8-1薄膜的结构8-2薄膜的缺陷8-3薄膜结构与组分的分析方法第九章薄膜的性质9-1薄膜的力学性质9-2金属薄膜的电学性质9-3介质薄膜的电学性质9-4半导体薄膜的性质9-5薄膜的其他性质参考文献

作者简介

《薄膜物理与技术》为电子材料与元器件专业本科专业基础教材,也可供物理电子技术、半导体物理与器件、应用物理、敏感材料与传感器等专业的本科生和研究生,以及从事薄膜材料、薄膜物理、薄膜技术和电子材料与元器件、混合微电子技术等厂所的工程技术人员使用和参考。薄膜物理与薄膜技术均是正在发展的学科与技术,有关薄膜的性质,薄膜形成机理的某些内容还处于探讨中,薄膜技术也在不断发展与完善之中;因此,《薄膜物理与技术》只能着重介绍薄膜物理与薄膜技术的基本内容,不可能对这两大部分的广阔而丰富的内容作全面而详尽的论述。

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《薄膜物理与技术》由电子科技大学出版社出版。

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精彩短评 (总计1条)

  •     以前学的时候等结课了才买的书,为了应付考试。不过后来才发现这本书挺好的,找工作很多都要求懂这个的。
 

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